Серия eVoS LE

50 - 500 эВ, прямое управление распределением энергии ионов
  • Энергия ионов: 50 - 500 эВ
  • Ток ионов: 10 - 400 мА
  • Распределение энергии ионов: FwHM < ±10 В или 5%
  • Диапазон импульсов: 1 - 5000 Гц (заполнение 10 - 90 %, мин. интервал 100 мкм)
  • Охлаждение: водное (+5 … +30 °C, давление 6,9 бар, расход 7,6 л/мин)
  • Диапазон рабочих температур: +5 … +40 °C

Радиочастотные источники питания Серия eVoS LE

Генераторы плазмы Advanced Energy серии eVoS LE используют уникальную технологию управления распределением энергии ионов в процессах плазменной обработки (травление, осаждение). Они создают сигналы асимметричного смещения, напрямую воздействующие на потенциал поверхности пластин. Данные устройства оснащены передовыми цифровыми инструментами для измерения и программного ведения работы, обратная связь по напряжению смещения и ионному току в реальном времени. Платформа eVoS LE заключают в себе функционал двунаправленного источника напряжения и независимого источника тока. Используемая запатентованная система управления повышает качество плазменной обработки, обеспечивает максимально эффективное использование энергии и отличные показатели быстродействия. Применение данного оборудования способствует значительной оптимизации процессов и снижению непроизводительных затрат, в частности уменьшению потерь на нагрев.